مرحلة الغسيل المركز

الهدف من هذه المرحلة هو نفس الهدف من مرحلة الغسيل الأولى ، ولذلك فإن هاتين الغسلتين متماثلتان من ناحية الهدف وتركيز الإلكتروليت . ويتكون المحلول المستخدم في هذه المرحلة من : ركيزة الغسلة المخففة الأولى مع إضافة كمية من الصودا الكاوية الجديدة لزيادة تركيز القلوي ، وهذا القلوي المضاف سوف يظل موجودا خلال معظم دورة الغسيل ليكون أكثر فاعلية في تحبب الصابون لفصل أقصى كمية من الجلسرين . أما المحلول الناتج والمنفصل بعد الراحة فيوجه إلى مرحلة الغسلة الأولي .

5- الغسلة المخففة الأولى للصابون : تهدف هذه المرحلة إلى إعداد الصابون لمرحلة الحلول عن طريق : إزالة هيدروكسيد الصوديوم من الصابون – إزالة الملح من الصابون – إزالة الجلسرين من الصابون . ويتكون المحلول المستخدم في هذه المرحلة من : ركيزة الغسلة المخففة الثانية ، والمحلول المنفصل من معالجة العسل والمسمي بمحلول العسل . ونتيجة لانخفاض تركيز الإلكتروليت بالمحلول نجد أن : حبيبات الصابون تكون طويلة ورخوة – يكون انفصال المحلول بطيئاً – مدة الراحة طويلة نسبياً – تركيز القلوي في الركيزة الناتجة يكون منخفضا . أما المحلول الناتج بعد الراحة فيوجه إلى مرحلة الغسيل المركز .

6- مرحلة الغسيل المخفف الثانية : يعتبر الهدف من هذه المرحلة هو نفس الهدف من مرحلة الغسيل المخفف الأول ، ولذلك فإن هاتين الغسلتين متماثلتان من ناحية الهدف وتركيز الألكتروليت .

ويتكون المحلول المستخدم في هذه المرحلة من : الماء العذب – ملح الطعام – نسبة قليلة جدا من هيدروكسيد الصوديوم – محلول العسل إذا كان صالحا .

أما المحلول الناتج والمنفصل بعد الراحة فيوجه إلى مرحلة الغسيل المخفف الأولي